高功率脈衝磁控濺鍍鍍膜機
產品描述 : 高功率脈衝磁控濺鍍系統(HiPIMS ,High Power Impulse Magnetron Sputtering) 是一種以高功率脈衝電源進行磁控濺鍍的技術,透過產生比傳統直流濺鍍模式要高上數十倍之瞬間脈衝電流,得到比直流濺鍍要高上百倍至萬倍的電子密度的高密度電漿,而此HIPIMS鍍膜系統可有效提高被濺射粒子的離化率,並可在低基材溫度下得到無孔隙、緻密度高、結晶性佳的薄膜。

HiPIMS 技術的關鍵核心為電源供應器,大永真空獨立HiPIMS電源供應器設計結合單一靶座。將直流電源供應器的電能累積至充電電壓可達數百、數千伏特的脈沖模組電容中,再以電晶體控制放電的脈衝時間、脈衝頻率,以產生高密度電漿於獨立靶面,將靶面中毒的機率降至最低,增加靶材離化率與利用率,節省大量鍍膜成本。

大永DYHC系列HiPIMS濺鍍設備優秀的電源與腔體設計使其擁有高電漿密度(1018~19e-/m3)、高離化率(70~100%)的特點,使薄膜有良好的緻密性、附著性、平整性及抗腐蝕的特性。較低的佔空比(<5%),使製程溫度大幅降低,基板的選擇也更多,如軟性基板PEN、PET等。

詳情請參考:https://zh-tw.dahyoung.com/
大永真空設備股份有限公司
品牌: 大永真空設備股份有限公司
攤位號碼 : M0403
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